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更新時間:2026-01-22
瀏覽次數:30| 項目 | 參數 |
|---|---|
| 研磨方式 | 行星回轉 |
| 容器配置 | 2 個 ×45mL(可定制 4 個) |
| 適用樣品 | ≤5mmφ,每容器≤10mL/10g |
| 球徑可選 | 15/12/10mm |
| 最高轉速 | 臺盤 600rpm |
| 電機功率 | 200W |
| 電源 | AC100V 50/60Hz(可定制 220V) |
| 外形尺寸 | W50×D30×H35cm |
| 重量 | 約 30kg |
| 核心特點 | 密閉容器適配干濕法,可選瑪瑙 / 氧化鋯 / 鎢等容器材質防污染 |
核心優勢:小型桌面設計,適合少量樣品(≤10mL / 容器)避免飛散;密閉容器支持濕式 / 氣體置換作業,多材質容器可選,降低樣品污染風險。
適配場景:實驗室小批量研發、貴重 / 微量樣品處理、材料科學與電子材料制備等。
選型要點:確認樣品量≤10mL / 容器、粒徑≤5mmφ;電源需匹配 AC100V 或定制 220V;根據樣品特性選容器材質(如瑪瑙防污染、氧化鋯耐磨)。
衍生型號:LP-M2C 為冷卻型,研磨區控溫 20-40℃,適合熱敏樣品,尺寸 W640×D672×H313mm,重量約 50kg。
配套:可選氣體置換閥容器、振動傳感器、溫度顯示器(冷卻型標配)。
安裝:放置于水平穩固臺面,預留散熱空間;按樣品密度與硬度匹配球徑 / 填充率,避免過載。


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2026.1.22
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