SIGMAKOKI/西格瑪光機自動偏光解析系統

基本構成例

這里介紹幾種計測·解析的典型光學系統構成例。

我們可根據您的目的或使用要求更改結構和部件的型號，詳情請*詢。

在光源的后方設置偏光操作光學系統，可輸出任意偏光狀態的光束。

可選擇直線偏光，圓偏光，橢圓偏光以及長短軸比例，轉動方向等。

可用計算機動態控制。便于評估具有偏光依存性的樣品，或在光路后部進行偏光補償。

計測和解析入射光束偏光狀態的裝置。

可求入射偏光的斯托克斯參數S0?S3。

任意偏光光源，樣品保持機構，偏光測定裝置的組合，可完成樣品的特性的測定。

可構建透過型或反射型。

反射型即可測偏光特性，也可用作橢圓偏振光法（Elipsometry）。

可觀測紋理，加工應變等，樣品內部的應變的裝置。

可把內部應變的分布和變化錄像。

承接生產設備或測定裝置，專用裝置的開發制造主要部件選用樣本上的標準產品，既經濟，又容易保證質量和性能。
只需添置一些配合專用設備的零部件就可完成開發，效率高，容易實現個性化研發。

采用立式透過光學系統的偏光光學件特性評價系統

只需把被測樣品放置到臺架上就可完成測定。

可測定分光相位差，偏光分光特性，透過偏光比等。

SIGMAKOKI/西格瑪光機自動偏光解析系統